圆满落幕ULVAC-PHI中国子公司成立仪式暨2023全国表面分析新技术与应用研讨会

11月24日，“ULVAC-PHI中国子公司成立仪式暨2023全国表面分析新技术与应用研讨会”在江苏南京成功召开。此次会议上PHI CHINA正式回归ULVAC-PHI总部，并成立爱发科费恩斯(南京)仪器有限公司，这标志着我们发展的一个新起点，为技术研发和售后服务等能力提供了强大的支持，同时也有助于我们为国内外客户提供更具高性能的产品设备和更优质完善的技术服务。

会议还邀请了表面分析领域的技术专家和研究学者，共同为大家带来有关XPS、TOF-SIMS和AES等最前沿技术进展及其在多学科中的应用的学术交流。

与会人员合影

成立仪式

ULVAC-PHI中国子公司成立仪式

原 泰博-致  辞

ULVAC- PHI，Inc.  

岩下 節生-致  辞

爱发科

嘉 宾-致 辞

叶上远-致 辞

PHI CHINA / 爱发科费恩斯（南京）

专家报告

鞠焕鑫PHI CHINA/爱发科费恩斯（南京）

《ULVAC-PHI 表面分析技术最新进展》

姚文清清华大学

《表面化学分析标准化进展与成效》

朱雷胜科纳米（苏州）股份有限公司

《表面分析在 NSOP 失效方面的应用》

国洪轩东南大学

《二维材料中低能带电粒子散射平均自由程的测量》

宋廷鲁北京理工大学

《回首十七载，与 PHI 共成长》

宁艳晓中国科学院大连化学物理研究所

《电场诱导固态电极/电解质界面重构的原位 XPS 研究》

姚宏斌中国科学技术大学

《新型氯化物固态电解质/锂金属界面探究》

薛景中台湾中央研究院

《Validated Analysis of Component Distribution Inside Perovskite Solar Cells and Its Utility in Unveiling Factors of Device Performance and Degradation》

叶思思天目湖先进技术储能研究院

《表界面表征分析技术在电池领域中的应用》

会议结束后，我们还邀请了与会人员参观南京实验室，大家积极互动，现场氛围十分热烈。

会议圆满落幕，也预示着爱发科的成长与发展步入了新的阶段。我们十分荣幸能在这特殊的时刻，在大家的共同见证下迈出这新的一步。未来，我们将继续听取各位的意见和建议，以更好的为大家提供服务，为中国表面分析行业的持续发展做出贡献！