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反光电子能谱IPES专辑之应用案例(二)

低能量反光电子能谱(LEIPS)通过测量不同工艺条件下有机薄膜的LUMO能级变化,揭示了添加剂和热退火处理对表面能级的调控作用。

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二次离子质谱中液态金属离子源(LMIS)简介

在二次离子质谱设备的硬件结构中,用于轰击样品表面以产生二次离子的分析源是极为重要的核心组件。目前,大部分商用TOF-SIMS设备均采用液态金属离子源(Liquid Metal Ion Source, 简称LMIS)。本文将详细介绍LMIS的工作原理、发展历史及其在TOF-SIMS中的应用。

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文献解读IXPS/HAXPES深度解析电池材料的电荷补偿机制

导语:利用X射线光电子能谱(XPS)和硬X射线光电子能谱(HAXPES)技术,深入研究了LiₓNiO₂电极材料在表面至30纳米深度范围内,镍(Ni)和氧(O)在充放电过程中的电荷补偿行为。

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AES俄歇电子能谱专辑之功能篇(二)

上篇介绍了俄歇电子能谱(AES)的定性分析、定量分析及化学态分析功能,本篇我们将继续分享更多AES高级功能,其中包括表面形貌观察、深度分析及显微分析。

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爱发科费恩斯(南京)仪器有限公司
ULVAC-PHI是全球领先的超高真空表面分析仪器供应商。专注于研发和生产表面分析仪器,包括光电子能谱仪(XPS)、俄歇电子能谱仪(AES)、飞行时间二次离子质谱仪(Tof-SIMS)和动态二次离子质谱仪(D-SIMS)。通过提供独特的技术解决方案,帮助客户解决各种具有挑战性的问题,从而加速新产品和新技术的发展。产品应用领域包括纳米技术、太阳能技术、微电子技术、存储介质、催化、生物材料、药品以及金属、矿物、聚合物、复合材料和涂料等基础材料。

作为唯一一家能够同时提供高性能XPS、AES和SIMS全系列表面分析仪器的制造商,ULVAC-PHI在全面性和完整性的表面分析解决方案领域拥有独特的地位。
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